黑硅行业技术壁垒较高，其主要制备方法包括等离子体低温处理法、激光脉冲扫描硅片法以及化学腐蚀法三种，以上三种方法存在收率低、成品质量差、生产成本高等问题，无法满足黑硅规模化生产需求。在此背景下，我国企业及相关科研机构不断加大对于高性能黑硅制备方法的研究，华林科纳自主研发的两步湿法刻蚀法，可生产出具备极佳光学性能的黑硅产品，该法未来有望在我国黑硅生产中获得广泛应用。
根据新思界产业研究中心发布的《2023-2028年中国黑硅行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，黑硅在光电探测器、太阳能电池、CMOS图像传感器等众多高新技术领域拥有广阔应用前景。在光电探测器领域，黑硅光电探测器具有电气特性佳、广谱光敏性强、测光精度高等优势，可实现大范围探测；在太阳能电池领域，黑硅可有效提升太阳能电池的光电转换效率，该领域有望成为其最大需求端；在CMOS图像传感器领域，黑硅能使其感光度及性能得到提升。
我国黑硅行业尚处于起步阶段，以实验室研发为主，受市场前景吸引，本土企业及相关科研机构研发热情持续高涨，目前已取得众多新进展。2023年初，河北大学物理科学与技术学院光伏技术中心陈剑辉研究团队，利用溶液法电化学钝化机制，成功实现了黑硅电池的高质量钝化，未来该技术有望在黑硅太阳能电池制备过程中获得广泛应用。
全球黑硅主要生产商包括美国西奥尼克斯公司（SiOnyx）、美国Natcore公司、加拿大阿特斯阳光电力集团（Canadian Solar）等，其中阿特斯位居市场龙头地位，其黑硅年产能达到近10GW。在本土市场方面，我国黑硅生产商众多，包括尚德电力、亿晶光电、协鑫集成、帝科股份、华林科纳、艾能聚、中青创黑硅科技等。
新思界行业分析人士表示，作为新型电子材料，黑硅具有极佳光学性能，在众多领域拥有广阔应用前景。近年来我国企业及相关科研机构持续发力，带动黑硅生产技术不断进步，其应用范围进一步扩展。预计未来一段时间，具备高性能黑硅规模化生产能力的企业将占据我国市场更大空间。
